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化工及半導體制造業對水的凈化要求極高，用于清洗集成電路用水或化工用水，一般要求電阻率達到18兆歐。特別制造的RO元件和高純化級離子交換樹脂或EDI裝置，會同一些特殊的水處理方法，是 達到高品質化工及電子用水的重要途徑。
本公司提供的HNR HINER膜元件，性能穩定，壽命長，脫鹽率高和抗微生物的侵蝕，廣泛地應用在電廠除鹽水工藝中。
反滲透膜元件進行鍋爐補給水的前處理，用來脫除硅溶解鹽和所有的有機碳類物質，這樣可以延長離子交換樹脂及EDI裝置壽命和減少再生次數，降低廢水處理設備成本及其維護費用。
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